Halbleiter und MEMS

Maximierung der Erträge durch fortschrittliche Materialien

Die fortschrittlichen Halbleiterchemikalien, die anpassbaren Chemieplattformen, die Vorläufer für die Atomlagenabscheidung (ALD) und die niedrigflüchtigen Silikone von ^Avantor® wurden entwickelt, um Halbleiterfabriken und Herstellern von mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) zu helfen, ihre Ziele zur Prozessverbesserung schneller zu erreichen, die Produktqualität zu steigern und die Hochlaufzeit zum nächsten Technologieknoten zu verkürzen.

Unser bewährtes Portfolio an ^JTBaker® Halbleiterchemikalien, darunter Vorläufer für die Atomlagenabscheidung (ALD) und das Atomlagenätzen (ALE), Fotolackentferner, Rückstandsentferner sowie Chemikalien zum Ätzen und Reinigen von Materialien, wird von führenden Halbleiterfabriken weltweit eingesetzt, um die Prozessschritte im Front-End-of-Line (FEOL), Middle-of-Line (MOL) und Back-End-of-Line (BEOL) zu verbessern.

Und unsere Silikone der Marke ^NuSil® unterstützen verschiedene Stufen der Halbleitergehäuseentwicklung, einschließlich thermisch und elektrisch leitfähiger Silikone für EMI- und RFI-Abschirmungsanwendungen.

Nasschemikalien: Ätzen, Abbeizen und Reinigen

Die Nasschemikalien ^JTBaker® von Avantor sind auf Reinheitsgrade im Billionenbereich ausgelegt und können Halbleiterfabriken unterstützen:

Effiziente und gründliche Entfernung von Boden- und Seitenwandrückständen
Erfüllen Sie die anspruchsvollen Anforderungen an die Integration neuartiger Metall- und dielektrischer Integrationsschemata.
Verwenden Sie Rückstandsentferner, die selektive Ätzfähigkeiten bieten.
Prozessmargen für die Entfernung von Ätzrückständen und Opferschichten erhöhen
Durch die Zusammenlegung von Nassprozessschritten lassen sich die Gesamtbetriebskosten senken.

ALD- und ALE-Vorläufer

Die ^JTBaker® ALD- und ALE-Vorläufer von Avantor sind auf Reinheitsgrade von <1 ppb und >99,99999 % (7N) ausgelegt, um Halbleiterfabriken bei der Optimierung und Migration zu Fertigungstechnologien der nächsten Generation zu unterstützen. Insbesondere:

^JTBaker® PRCR-DIAM ALD-Vorläufer ermöglichen fortschrittliche thermische Prozesstechnologie und verbesserte Gerätezuverlässigkeit
Siliziumdioxid (SiO2)-ALD-Produkte ermöglichen eine niedrigere Nassätzrate, glattere Schichten, verbesserte Gleichmäßigkeit, Konformität und Stufenabdeckung.
SiO2-ALD-Produkte sind chlorfreie Vorläuferstoffe/Prozesse.
Zinnoxid (SnO2)-ALD-Produkte ermöglichen fortschrittliche EUV-Lithographieanwendungen.
^JTBaker® ETCH-501 ermöglicht neuartiges ALE und Ätzen von Metalloxiden für fortschrittliche Knotenintegrationen.

Zentren für Technologie und Innovation

Zentren für Technologie und Innovation (Bild)

Wir investieren kontinuierlich in die Innovation unserer Materialien und Prozesse in enger Zusammenarbeit mit der Halbleiter- und MEMS-Industrie. Avantor betreibt umfangreiche, laufende Forschung und Entwicklung im Bereich chemischer Materialien für Prozessknoten unter 10 nm/450 mm, unterstützt durch globale Lieferkettenressourcen und Technologiezentren in wichtigen Industriegebieten.

Unser Technologiezentrum in Chubai, Taiwan, unterstützt die Entwicklung von Halbleiterchemikalien und -materialien und dient als „virtuelle Fabrik“, um im Auftrag von Kunden Prozesssimulationen, Tests und Analysen in Echtzeit durchzuführen.
Unser Technologiezentrum in British Columbia auf Vancouver Island unterstützt die Entwicklung von ALD- und ALE-Vorläufern sowie neuartigen Reinigungstechniken, die für die Anforderungen zukünftiger fortschrittlicher Technologieknoten benötigt werden. Das Demonstrationslabor ermöglicht ALD- und ALE-Tests und -Analysen von Kundenproben und bietet innovative Möglichkeiten zur Modellierung von Oberflächen- und Gasphasenprozessen mit ALD und ALE.
Unsere NuSil-Silikonforscher in Carpinteria, Kalifornien und Bakersfield, Kalifornien bieten modernste Lösungen zur Charakterisierung und Anpassung von Silikonen für die Designherausforderungen unserer Kunden sowie kundenspezifische Analysedienstleistungen und standardmäßige Qualitätssicherungstests.

Halbleiterchemikalien und MEMS-Materialprodukte

Optimieren Sie jetzt Ihre Prozessleistung. Unsere innovativen Lösungen für die Halbleiter- und MEMS-Fertigung umfassen:

ALD Co, SiO2, SnO2 und andere Vorläufer
ALE-Chemikalien zum selektiven Ätzen von Metalloxiden
Chemikalien für fortgeschrittene Kupferprozesse
Aluminium-Prozesschemikalien
Chemikalien zum Ätzen und Reinigen von Materialien
Fotolackentferner
Entferner von Ätzrückständen
Chemikalien zur Oberflächenvorbereitung

Elektronische Silikonprodukte

Wählen Sie aus einem branchenführenden Sortiment an Schutzlacken, Vergussmassen, Klebstoffen und Gelen, um wichtige elektronische Bauteile zu schützen und die Gerätemontage zu optimieren.